La technologie Plasma Quest Ltd (HiTUS) est un processus basé sur la génération à distance d’un Plasma à Haute Densité. Le plasma est généré dans une première chambre s’ouvrant sur la chambre principale du procédé, contenant la cible et le substrat à recouvrir. Pour améliorer l’adhésion et préparer le substrat, les contaminants volatiles sur la surface du substrat sont enlevés, en dirigeant le faisceau du plasma sur le substrat. Avant toute déposition, la cible est bombardée par un plasma d’argon pur afin de la nettoyer des oxydes et toute contamination.

Comme le plasma est généré à distance, et non à partir de la cible elle-même (comme tel est le cas dans la technologie à magnétron), le courant ionique de la cible est indépendant du voltage appliqué à la cible. Cela donne des degrés de liberté supplémentaires au procédé de croissance de la couche déposée et permet de développer de nouveaux processus et structures.

Quelques autres avantages peuvent être présentés tels que :

Systèmes Multi cibles et multi substrats dans la chambre du procédé, permettant la déposition de multicouches et de séries en batch semi-continues. Nous sommes en train de développer un procédé linéaire pour substrat à grande surface avec les mêmes avantages que la technologie HITUS pour des procédés en ligne.

La technologie HITUS utilise la cible à >90% comparé au procédé à Magnétron qui l’utilise à < 40%, pas de creux formé

Comme aucun creux n’est formé dans la cible, l’empoisonnement de celle-ci durant un bombardement réactif (tel que la déposition de SiN ou SiO2) est réduit. Des systèmes de contrôle par DC pulsé ou autre ne sont ainsi point requis. De plus les vitesses de déposition pour des matériaux diélectriques sont jusqu’à dix fois plus importantes que par des procédés à Magnétron.

La possibilité de déposer des films ferromagnétiques en utilisant d’épaisses cibles ferromagnétiques (typiquement de 6mm). Nous avons utilisé des cibles ferromagnétiques jusqu’à 20 mm d’épaisseur.
Les propriétés du film déposé sont indépendantes de la vitesse de déposition

La contrainte du film est contrôlable, de la compression à la tension en passant par une contrainte nulle
Nous pouvons déposer sur des polymères sensibles thermiquement tels que PET/Kapton etc.

Des propriétés telles que l’indice de réfraction et la résistivité sont proches des valeurs de la masse
Quelques exemples de matériaux déposés à ce jour : Al2O3, Nb2O5, SiO2, Ta2O5, TiO2, ITO, SnO2, Fe, Ni, Co, Cr, CrO2, Al.

Les applications:

- Information & Communication: Stockage de données, Fibre Optique, Ecran plan
- Optique: Optique de précision, Ophtalmique
- Electronique flexible (croissance du marché estimée à $30Bn en 2015): OLED’s, Ecrans flexibles
- Aérospace: Cockpits, Miroirs
- Photovoltaïque: Panneaux solaires, Réflecteurs

- Semi-conducteurs- Ingénierie des couches fines et épaisses

- Ingénierie des couches fines et épaisses